상하이방

중국의 국제특허 출원 수가 미국에 이어 세계에서 두번째로 많다고 22일 중국신문망(中国新闻网)이 보도했다.

세계지적재산권기구가 발표한 자료에 의하면 미국의 국제특허 출원 수가 5만6624건으로 가장 많았고 중국이 전년 대비 13.4% 증가한 4만8882건으로 2위, 일본이 4만8208건으로 3위를 차지했다.

중국의 라이센스 신청수는 지속적으로 증가하고 있는 추세이다. 세계지적재산권기구 관계자는 "중국이 앞으로 3년내에 미국을 추월해 세계 1위가 될  가능성이 있다"고 말했다.

일본의 라이센스 신청수도 전년에 비해 6.6% 증가했으나 2003년이후 지켜오던 2위자리를 중국에 내줘야 했다.

전세계적으로는 지난해 총 24만3500건의 특허가 출원됐다. 이는 전년 대비 5% 증가한 것으로 과거 최다기록이다. 이 가운데 절반은 동아시아에서 나온 것이다.세계지적재산권기구 관계자는 또 "동남아지역의 특허출원 수는 전체의 절반가량을 점하고 있다"면서 "기술혁신 분야가 큰 지각변동을 하고 있다"고 말했다.

분야별로는 컴퓨터기술이 8.6%로 1위, 그 다음으로는 디지털통신이 8.2%로 2위, 전자기계가 6.8%로 3위였다.

이밖에 세계지적재산권기구는 2017년 국제상표와 국제 디자인 관련 출원 통계도 발표했다. 상표권에서는 미국과 독일이 각각 1위와 2위로 가장 많았고 중국이 세번째였다. 디자인 분야에서는 독일, 스위스, 한국이 1~3위를 차지했다.

윤가영 기자